第193章 分界岭

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赵龙腾看着赵岂年，呵呵一笑，并未说什么，而是站了起来，给自己泡了壶大红袍！

        这玩意，赵龙腾金贵的很，从来不舍的给赵岂年喝！

        “你小子真是神了，居然能用计算法推算出用水可以推进光刻机的进步！”

        “虽然有点差异，但是我们成功了！”

        赵岂年早就想好了的说辞，这一次终于派上用场了！

        “这可不是我计算的，是我花高薪聘请了国外的数学家帮我计算的！”

        “油浸法在光刻机领域一直都有使用，我就想到了水是不是也可以，他们都可以折射光！”

        “然后，我就请人以油浸法的模型推算了水的可行性！”

        “我最多就是想到了，灵光一现吧…”

        赵龙腾笑了笑，没有发表看法，这个说法他实际上是接受的，不然真的解释不了！

        光刻机从出现开始，到现在，光源被卡在  193n  无法进步长达  20  年。

        这就是著名的  arf  准分子激光，包括近视眼手术在内的多种应用都应用这种激光！

        到现在，相关激光发生器和光学镜片等都比较成熟。

        就是到后来，市面上用的所有手机电脑主芯片仍旧是  193n  光源光刻出来的。

        光源卡住了，想让精度更高，只能从其他方面入手。

        伴随着光源被卡主，光刻机的精度，其实也同样被卡住！

        193纳米是一个分界岭！

        全球高科技领域，甚至是米国政府，都插手这个事情，组成了联盟！

        但是，尝试了很多方法，提出了很多解决方案，依旧没有成功！

        最后，一切都败给了工程上最简单的解决办法，在晶圆光刻胶上方加  1  厚的水。

        水可以把  193纳米的光波长折射成  134纳米！

        浸入式光刻成功翻越了  157纳米大关，直接做到半周期  65纳米！

        加上后来不断改进的高  na  镜头、多光罩、波段灵敏的光刻胶等技术，浸入式  193纳米光源的光刻机一直做到后来的7纳米！

        而按照原来的历史，2002  年浸入式  193纳米的方案才会被提出，随后  al  在一年之后才开发出样机！

        而现在，还没到2002年！！

        光刻机跨越193纳米，是无数次尝试的结果！

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